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光学综合测量系统(美国)

主要用于测量光学元件的焦距、图象质量
测量范围:+/-5mm—+/-1000mm(EFL)
测量精度:5-25mm:0.3%-0.5%
         25-800mm:0.08%-0.8% 
         800-1200mm:0.5-0.8%
重 复 性:0.1%-0.5%

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